在使用铟进行焊接或润湿（涂覆）时，我们经常被要求对铟的氧化物形成以及如何去除氧化物发表意见。下面的程序將幫助您更好地瞭解氧化铟、去除氧化铟以及去除氧化铟後的處理方法。
在室溫下，铟表面形成的氧化物厚度在 80-100 埃之間。一般而言，氧化物的數量並不會對铟與基板的濕潤造成顯著的障礙，尤其是在使用助焊劑的情況下。即使不使用助焊劑，铟在形成接點或表面塗層時也不會有任何困難。
如果應用需要無氧化物的接點，且無法使用助焊劑，則可按照以下步驟輕易去除氧化铟：
- 使用異丙醇或丙酮清潔铟，以去除任何表面的有機物。晾乾。
- 在 10% HCl 中蝕刻铟 1 分鐘，以去除表面氧化物。
- 用去離子水沖洗铟以除去酸。
- 在異丙醇或丙酮中沖洗铟以除去水分。
- 使用乾燥氮氣吹乾或待風乾。
一般而言，新蝕刻的铟一暴露在空氣中，其表面就會開始形成氧化物，此時氧化層的厚度在 30-40 埃之間，暴露在空氣中 2-3 天後，氧化物就會達到 80-100 埃的鈍化厚度。
請注意：
在蝕刻製程中，必須小心分開铟的單位，以免它們黏在一起。如果它們黏在一起，就很難在不扭曲铟的情況下將它們分開。
如果不立即使用蝕刻好的铟，建議存放在氮氣乾燥箱中，或者將蝕刻好的铟浸泡在乾淨的丙酮中，以防止暴露在空氣中。